路透：中國的芯片“曼哈頓計劃”取得重大突破

路透：中國的芯片“曼哈頓計劃”取得重大突破，前ASML工程師打造出極紫外光刻機原型機

據路透報道，在中國深圳一座安保嚴密的實驗室裏，中國科學家已經打造出一種原型機，能夠生產最先進的半導體芯片，些芯片是人工智能、智能手機和西方軍事主導地位所依賴的核心技術，而這正是華盛頓多年來一直試圖阻止的事情。



AI生成原型機於2025年初完成，目前正處於測試階段，看上去幾乎占據了一整個工廠車間的麵積。

據兩位知情人士透露，這台設備由一組來自荷蘭半導體巨頭ASML的前工程師打造，他們對ASML極紫外光刻機（EUV）進行了逆向工程。

EUV光刻機在技術冷戰中是關鍵。這種設備利用極紫外光束在矽片上蝕刻電路，這些電路比頭發絲細成千上萬倍。目前仍由西方壟斷。電路越小，芯片就越強大。

知情人士表示，中國的這台機器已經投入運行，並成功產生了極紫外光，但尚未製造出可用的芯片。

ASML首席執行官克裏斯托夫·福凱在4月表示，中國要發展出這項技術“還需要很多很多年”。但此次由路透首次披露的原型機的存在，表明中國實現半導體獨立的時間可能比分析人士預期的更早。

不過，中國仍麵臨重大技術難題，尤其是在複製由西方供應商製造的高精度光學係統方麵。

據兩位知情人士透露，通過在二級市場上獲取舊款ASML機器的零部件，中國得以製造出這台國產原型機。

政府已經設定目標，要在2028年用原型機製造出可用芯片。

但接近項目的人士表示，一個更現實的目標是2030年。即便如此，也比分析人士此前認為中國要追趕西方芯片技術所需的十年時間，提前了數年。

這一突破，標誌著中國政府六年半導體自主計劃的階段性成果。這是習近平高度重視的國家戰略目標之一。

盡管中國發展半導體的目標是公開的，但知情人士透露，深圳的EUV項目一直在秘密進行。項目屬於國家半導體戰略的一部分。

據官方媒體報道，這項戰略由習近平的親信丁薛祥主導，他擔任中共中央科技委員會負責人。

據三位消息人士透露，華為在全國範圍內協調由數千名工程師組成的公司和國家研究機構網絡，在這個項目中發揮了關鍵作用。

這些人將此形容為中國版的“曼哈頓計劃”，即美國在戰爭時期研發原子彈的努力。

其中一位人士表示：“目標是最終讓中國能夠在完全國產的設備上製造先進芯片。中國希望將美國徹底逐出供應鏈。”

迄今為止，隻有一家企業掌握了EUV技術，即總部位於荷蘭費爾德霍芬的ASML。公司的光刻機售價約2.5億美元，是英偉達、AMD等公司設計的最先進芯片製造過程中不可或缺的設備，而芯片的製造商包括台積電、英特爾和三星。

ASML在2001年製造出首個EUV技術原型機，並告訴路透社，公司花費近20年時間以及數十億歐元的研發支出，才在2019年生產出首批可商業化使用的芯片。

ASML在聲明中表示：“其他公司想要複製我們的技術可以理解，但做到這一點絕非易事。”

目前，ASML的EUV係統隻對美國盟友開放，包括中華民國、韓國和日本。

從2018年開始，美國開始施壓荷蘭政府，要求阻止ASML向中國出售EUV係統。限製措施在2022年進一步擴大，當時拜登政府實施了大規模的出口管製，試圖切斷中國獲取先進半導體技術的渠道。

這些管製不僅針對EUV係統，也包括製造華為等公司使用的中低端芯片所需的舊款深紫外（DUV）光刻機，目的是至少讓中國在芯片製造能力上落後一代。

美國國務院表示，特朗普政府加強了對先進半導體製造設備出口管製的執行，並正與合作夥伴“配合技術進展，彌補漏洞”。

荷蘭國防部表示，荷蘭正在製定新政策，要求“科研機構”對人員進行背景審查，以防止“有不良企圖或有被施壓風險”的人員接觸敏感技術。

知情人士表示，出口限製多年來減緩了中國實現半導體自給的進展，也限製了華為在先進芯片生產方麵的發展。

據一位熟悉情況的人士透露，一位被招募參與項目的、擁有ASML背景的資深中國工程師，對高額簽約獎金感到驚訝。

更令他意外的是，他收到的身份卡上使用了假名。

這位人士表示，進入實驗室後，他認出了其他也曾在ASML工作、如今在此項目中擔任職務的同事，這些人同樣使用假名。

他被指示在工作中也必須使用這些假名，以確保保密。

另一人也獨立證實，招募人員會被發放假身份卡，以在這個安保設施內隱匿真實身份。

兩位人士稱，相關指示非常明確：由於項目被列為國家安全事項，任何人都不得透露他們正在建造什麽設備，甚至不能透露他們身在此地。

據稱，團隊由一批最近退休、出生於中國的前ASML工程師和科學家組成。他們是招募重點，因為他們掌握敏感技術知識，離職後所受的職業限製也較少。

兩位目前在荷蘭工作的ASML中國籍員工告訴路透社，自2020年起，已有華為的招聘人員聯係過他們。

由於歐洲隱私法限製了ASML追蹤前員工的能力，盡管員工簽署了保密協議，但跨境執行非常困難。

2019年，ASML曾對一名前中國工程師提起訴訟，指控其竊取商業機密，並贏得了8.45億美元的判決。但法庭文件顯示，被告申請破產，目前仍在北京繼續創業，且獲得中國政府支持。

ASML告訴路透社，公司“嚴密保護商業機密和保密信息”，“雖然ASML無法控製或限製前員工的就業去向，但所有員工都受合同中的保密條款約束”，並強調曾“在商業機密被盜用時成功采取法律行動”。

ASML稱，為了保護EUV技術知識，公司內部也僅限少數員工可接觸這些信息。

荷蘭情報機構在今年4月發布的一份報告中警告稱，中國“通過龐大的間諜計劃，試圖從西方國家獲取先進技術和知識”，包括招募“西方科學家和高科技公司員工”。

知情人士表示，正是這些ASML的前員工促成了深圳的技術突破。沒有他們對這項技術的深度了解，想要對這些機器進行逆向工程幾乎不可能。

路透社查閱中國政府相關政策文件後發現，從2019年起，中國就開始積極招攬海外半導體專家，提供的簽約獎金從300萬至500萬元人民幣（約合42萬至70萬美元）起步，並提供購房補貼。

被招募人員中包括ASML前光源技術負責人林楠。據專利文件顯示，他在中國科學院上海光機所帶領的團隊，在18個月內申請了8項EUV光源相關專利。

另外兩位熟悉中國招才引智計劃的人士表示，一些加入項目的外國歸化公民獲得了中國護照，並被允許保留雙重國籍。

  走進中國EUV工廠

ASML最先進的EUV係統尺寸大致相當於一輛校車，重量達180噸。兩位知情人士表示，由於複製原型的尺寸多次失敗，深圳實驗室中的這台原型機體積擴大了數倍，以提升功率。

知情人士稱，中國的這台原型機雖不如ASML設備精密，但足以進行測試，已具備基本運行能力。

兩人表示，中國的設備之所以落後於ASML，主要因為研究人員難以獲得如德國蔡司公司提供的光學係統。蔡司是ASML的關鍵供應商之一。

根據蔡司官網的信息，這些設備通過每秒5萬次激光擊打熔融錫來生成等離子體，溫度可達20萬攝氏度。光線需經數月製造的反射鏡聚焦。

知情人士稱，中國頂級研究機構在研發國產替代產品方麵發揮了關鍵作用。

其中，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所（CIOMP），在將極紫外光集成進原型機的光學係統方麵取得突破，使其在2025年初實現運行。據其中一位人士稱，這套光學係統仍需大量優化。

據研究所官網今年3月的一次線上招聘信息顯示，為光刻方向博士提供“無上限”薪資，科研經費最高可達400萬元人民幣（約合56萬美元），另提供100萬元人民幣（約合14萬美元）個人補貼。

研究機構SemiAnalysis分析師、前ASML工程師傑夫·科赫表示，如果“光源功率足夠強、運行穩定且汙染控製得當”，中國將實現“實質性進展”。

他說：“這在技術上毫無疑問是可行的，問題隻在於時間表。中國的優勢在於，現在已有商業化的EUV技術，他們不是從零開始。”

兩位知情人士表示，為獲取關鍵零部件，中國正在從舊款ASML設備中回收組件，並通過二手市場從ASML供應商處采購部件，有時會通過中介公司網絡來掩蓋最終買家的身份。

兩位消息人士透露，中國的原型機還使用了來自日本尼康和佳能的受出口限製部件。

消息人士稱，國際銀行定期拍賣舊款半導體製造設備。路透社查閱阿裏拍賣平台發現，截至2025年10月，中國仍有拍賣舊款ASML光刻設備的記錄。

知情人士透露，大約100名應屆大學畢業生專注於對EUV和DUV光刻機組件進行逆向工程。

他們表示，每位員工的工作台上方都安裝有攝像頭，用於記錄其拆解和重組部件的過程。這項工作被描述為中國光刻項目的關鍵。

據稱，成功組裝出某個組件的員工可獲得獎金。

據四位熟悉華為運營情況的人士透露，雖然EUV項目由中國政府主導，但華為參與了從芯片設計、製造設備、生產流程，到最終集成至智能手機等產品的供應鏈每一個環節。

其中一人稱，首席執行官任正非會向中國高層領導匯報項目進展。

美國政府於2019年將華為列入實體清單，禁止美國企業未經許可與其開展業務。

消息人士表示，華為已向全國各地的辦公室、晶圓廠和研究中心派遣員工參與該項目。被分配至半導體團隊的員工常年駐廠工作，工作日不得返家，負責敏感任務的團隊還被限製使用手機。

其中一位人士說：“在華為內部，幾乎沒有人知道這項工作的全貌。各個團隊彼此隔離，以保障項目機密性。他們不知道其他團隊在做什麽。”