反應後處理去除TBAF

TBAF釋放的氟離子可與矽原子形成穩定的Si-F 鍵，廣泛應用於去矽烷基反應，這類反應通常可以在比較溫和的條件下進行，且產率很高，是切斷Si-O、Si-C 等共價鍵的常用方法。另外TBAF還可以用於氟取代反應製備氟化物，用於催化Hiyama交叉偶聯反應。TBAF是一種非常常見的試劑，但是其後處理非常讓人頭疼，很難純化幹淨, 反相柱層析或製備液相分離效果也不是很理想。

一、產物極性相對較小，水溶性不好

如果產物極性相對較小，在乙酸乙酯中溶解度好，產物反應液濃縮後，乙酸乙酯溶解，直接用水反萃TBAF，少量多次反萃（四到五次），可以直接點板（碘顯）判斷洗滌幹淨與否。LCMS監測也可以，但是TBAF容易汙染儀器，導致所有監測的樣品都出242的峰，會影響判斷除淨與否。由於二氯甲烷對四正丁基銨溶解度好，不建議用二氯甲烷溶解產物進行反萃操作。

 

二、產物是水溶性較差的固體

這種情況更好解決，直接利用四正丁基銨的水溶性，直接用水打漿，過濾即可，一次除不幹淨，重複操作，監測方法也建議點板。

 

三、產物極性很大

極性大的產物，上述兩種方法都不行的話，那就隻能直接柱層析，用DCM多次洗脫可以除掉TBAF（碘顯判斷是否除盡）再用大極性洗脫劑把你產物過出，如果反應好的話，我覺得純化不是很難！

 

四、少量產物分離

直接上大板。

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