據業內人士和外媒11月24日報道，英特爾在11月18日（當地時間）舉行的RBC資本市場全球TMT大會上宣布，其18A工藝良率每月提升7%。良率的提升已持續7-8個月，如果目前的趨勢得以保持，英特爾將能夠在不增加成本的情況下量產基於18A工藝的Panther Lake處理器。18A是英特爾最新的1.8納米級工藝，旨在與台積電和三星電子的2納米級工藝競爭。
投資者關係副總裁約翰·皮策 (John Pitzer) 就公司晶圓代工技術和戰略解釋道：“近期發生顯著變化的一點是，(18A) 合金的良率提升正朝著可預測的方向發展。” 他補充道：“本季度我們推出 Panther Lake 產品後，信心大增。” Panther Lake 工藝的良率在今年年中之前一直徘徊在 10% 左右，表現不佳。而實際生產所需的良率應為 70-80%。
英特爾將於明年1月在拉斯維加斯舉行的全球最大IT及電子產品展覽會CES 2026上發布其首款基於18A工藝的產品Panther Lake。此舉展現了英特爾的信心，因為Panther Lake被視為決定英特爾晶圓代工業務成敗的關鍵產品。副總裁皮策強調：“在14A（1.4納米級）工藝下，我們收到的客戶反饋比18A更快、更多、更好。”他還補充道：“14A在性能和良率方麵都遠勝於18A。”
