Mask works (掩膜作品)，在美國指集成電路布圖設計圖，“掩膜作品” 的譯文是根據美國對該定義翻譯而成的；在日本，同一概念稱作“電路布圖”（Circuit Layout）,瑞典稱為“布圖設計”（Layout Design），歐盟許多國家稱為拓撲圖（Topography）。我們同樣可以在維基百科的英文網站找到相關的解釋：
In United States intellectual property law, a "mask work" is a two or three-dimensional layout or topography of an integrated circuit (IC or "chip"), i.e. the arrangement on a chip of semiconductor devices such as transistors and passive electronic components such as resistors and interconnections. The layout is called a mask work because, in photolithographic processes, the multiple etched layers within actual ICs are each created using a mask, called the photomask, to permit or block the light at specific locations, sometimes for hundreds of chips on a wafer simultaneously.
在美國知識產權法中，“掩膜作品”是集成電路（IC或“芯片”）的二維或三維布局或形貌，即半導體器件（例如晶體管和無源電子元件）在芯片上的布置 例如電阻和互連。 這種布局稱為掩模作品，因為在光刻工藝中，實際IC內的多個蝕刻層均使用稱為光掩模的掩模來創建，以允許或阻擋特定位置的光，有時同時用於晶圓上的數百個芯片 。
