Suzuki–Miyaura偶聯，簡稱Suzuki偶聯，是眾多偶聯反應中最常用的偶聯反應之一。所以，了解Suzuki反應的雜質譜，對其中常見的雜質和副反應的產生原因進行總結，尤其是了解抑製這些雜質和副反應的方法，對於實際工作是非常有幫助的。
本文僅對Suzuki偶聯反應中常見雜質與副反應進行一個簡單的總結，並附上相關案例。至於這些雜質產生的根源以及相應的解決方案，將會在後續推文中進行詳述。
從下圖Suzuki偶聯的通式即可看出，該反應常見的雜質來源有3個，分別來自於：鹵代烴Ar-X，硼酸（酯）R-B(OH)2，以及產物Ar-R。
第三種雜質，即來源於產物的雜質，一般涉及產物的降解或者再反應，主要與其特殊結構或者某些敏感官能團有關，不具有普遍的代表性。所以，此處主要討論前兩種來源的雜質，即來源於鹵代烴和硼酸（酯）的雜質。
1. 源於Ar-X的雜質：鹵代烴脫鹵質子化
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案例：Org. Process Res. Dev. 2019, 23, 9, 1908–1917
Dactolisib（化合物9），是由諾華公司開發的磷脂酰肌醇3-激酶（PI3K）和雷帕黴素靶蛋白（mTOR）雙激酶抑製劑。其合成過程中的最後一步即是Suzuki偶聯。
該步反應中的一個主要雜質就是掉溴的化合物11。在該案例中，掉溴雜質的形成與催化劑，溶劑，堿，加料溫度和加料方式等因素有關。
2. 源於Ar-X的雜質：鹵代烴脫鹵羥基化
芳基鹵代烴在鈀催化下水解成酚的文獻有很多，但作為Suzuki偶聯的雜質進行報道的文獻，檢索到的很少，僅作為背景知識儲存。
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案例：Chemical Communications, 2005, # 15, p. 1990 - 1992
在鈀和碳酸鉀體係下進行的Suzuki偶聯反應，檢測到脫溴羥基化的雜質。
3. 源於RB(OH)2的雜質：脫硼質子化
這類雜質也是Suzuki偶聯反應中的常見雜質，尤其是對於一些穩定性相對較差的雜環硼酸酯。
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案例：Org. Process Res. Dev. 2018, 22, 7, 888–897
BMS-978587（1）是在百時美施貴寶開發的一種有效的小分子IDO抑製劑。在其最後的Suzuki偶聯一步中，脫硼雜質19就是主要雜質之一。該雜質的含量與反應溶劑有很大關係。在 Pd(OAc)2, P(o-tol)3, 和 NaOH反應體係中， 以DMAc為溶劑時，雜質含量高達49%，而以THF作為溶劑時，該雜質含量僅為8%。
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案例：Org. Process Res. Dev. 2020, 24, 2, 228–234
在另一個案例中，由於硼酸7的熱穩定性較差，在55度開始脫硼質子化反應。經優化後，該反應在室溫下進行，很好地抑製了脫硼雜質。
4. 源於RB(OH)2的雜質：脫硼自偶聯
同樣是Suzuki偶聯中常見的雜質，其形成因素主要與氧氣或者氧化劑的存在有關。
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案例：Organic Letters, 2003, vol. 5, # 26, p. 5003 - 5005
以Pd(OAc)2 為催化劑氟化銫作為堿，水作為反應溶劑，於80度下反應，除了目標產品3外，還檢測到明顯的硼酸自偶聯雜質4。
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案例：Org. Process Res. Dev. 2007, 11, 3, 359–364
LY451395禮來公司開發的治療阿爾茨海默病相關認知缺陷的化合物。在其中的Suzuki偶聯一步中，硼酸自偶聯雜質6是主要雜質。經研究發現，該雜質主要源於化合物3的自偶聯。
5. 源於RB(OH)2的雜質：脫硼羥基化
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案例：European Journal of Organic Chemistry, 2002, # 15, p. 2524 - 2528
在鈀催化下，碳酸氫鈉和乙二醇二甲醚體係中，除了產品外，還檢測到11%的脫硼羥基化雜質。
《來自網絡》
