中國一直在研製光刻機。從80年代到現在一直沒有停止

在80、90年代，光刻機一直是國家五年計劃的科技攻關項目。承擔研製的有中科院、電子部和高等學校。

二十一世紀初，國內研製光刻機的總體設計力量集中整合到上海微電子公司。光刻機研製由國家中長期科技發展計劃02專項支持。

按照目前的公開信息，國產光刻機水平在DUV（193nm波長）的28nm分辨率。

中國的精密儀器研製並不是依靠拆機測繪實現的。50年代中國的科學工作者就知道，拆機測繪並不能得到精密儀器設計中最重要的信息：誤差控製與分配。光學鏡頭的折射率、膜係、麵形都很難通過測繪獲得精密的數據，更不要說工藝參數了。

中國的7nm芯片並不是用國產光刻機製造的，而是用進口光刻機通過多次曝光實現的。良率的低下，關鍵因素是多次曝光，而不是國產設備。

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• 在你研究的過程中（不是指複製），你就有可能創新。 -金筆- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 15:30:51