作為半導體製造中的核心裝備之一，光刻機至關重要，7nm以下工藝所需的EUV光刻機隻有ASML公司能生產，售價達到10億以上，不過今年EUV的勢頭熄火了，DUV光刻機需求反而暴漲。
ASML公司日前發布了Q2季度財報，單季度營收達到69.02億歐元，同比增長27.10%，環比增長2.31%，接近此前的指引上限並創曆史新高。
實現淨利潤19.42億歐元，同比增長37.62%，環比減少0.72%。
公司單季度的毛利率為51.3%，高於指引，同比提升2.2pct，環比提升0.7pct，主要是浸沒式DUV設備快速出貨帶來的；淨利率為28.1%，同比提升2.1pct，環比降低0.9pct。
在ASML出售的設備中，EUV光刻機的營收占比這次大幅降低了，隻占37%，當季總出貨量為113台，EUV從上季度的17台減少到了12台，ASML對EUV業務的增長預期也從40%減少到25%。
EUV減少主要跟當前的半導體市場環境有關，各大晶圓廠的先進工藝投資都在放緩。
另一方麵，傳統的DUV光刻機需求反而大漲，全年出貨量可能比之前預計的375台還要多，營收增長50%以上。
其中一個重要原因就是中國客戶的需求爆發，除了國內半導體產能建設的需要之外，還有一個因素就是下半年荷蘭就會限製部分光刻機出口，國內客戶提前下單鎖定。
