說的是這種嗎？預計很快？什麽時候量產了來通知一聲。

中國芯片加速5納米量產，以現有設備實現先進工藝的突破

2024-04-24 16:02

柏銘007

 

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據了解北京一家企業正在研發一種利用現有光刻機生產5納米工藝的技術，預計很快就能實現量產，該工藝的核心技術是自對準四重圖案化（SAQP）技術，類似技術曾被台積電用於7納米，Intel也曾試圖利用該項技術。

Intel是最早考慮多重曝光技術的，2014年它就已量產14納米工藝，2016年ASML還沒量產EUV光刻機，Intel就試圖利用DUV光刻機輔以多重曝光技術，提升晶體管密度，研發自己的10納米工藝，結果Intel玩砸了，EUV光刻機量產後，Intel都未量產10納米，又推倒重來采用EUV光刻機生產10納米。

台積電的7納米工藝就采用了DUV光刻機生產，如此做是為了盡快量產7納米，並確保7納米工藝的量產；當時三星卻率先采用了EUV光刻機生產7納米，結果是台積電用DUV光刻機生產的7納米良率更高，在吃透了7納米技術之後，台積電再用EUV光刻機生產7納米，提升7納米技術的性能。

Intel的10納米被認為與台積電和三星的7納米相當，這也是業界質疑台積電和三星玩數字遊戲的原因，而台積電的10納米工藝幾乎是曇花一現，7納米量產後，10納米幾乎被舍棄，芯片企業要麽采用16納米，要麽直接用7納米，可以說台積電的10納米工藝就是一種過渡工藝。

如今這項多重曝光技術得到中國芯片行業的青睞，則在於中國芯片行業難以得到EUV光刻機，選擇多重曝光技術實屬無奈，但是如果采用這項技術實現5納米工藝，對於中國芯片行業來說則是重大突破。

由於眾所周知的因素所影響，中國的手機芯片、AI芯片等等都無法由台積電以先進的5納米工藝生產，這對中國芯片行業影響巨大，畢竟更先進的工藝可以帶來更強的性能和更低的功耗，增強芯片競爭力。

中國芯片研發的SAQP技術也有弊端，那就是多曝光一次，芯片的良率就會進一步下降，成本上升，不過在當前環境下，實現先進工藝的量產，對於國產芯片來說那是0與1的關係，隻要能量產，那麽對於中國芯片來說就具有重要意義。