芯動科技完成了全球首個基於中芯國際FinFET N+1先進工藝的芯片流片和測試,所有IP全自主國產,功能一次測試通過,這是過去數月工藝迭代和共同努力後獲得的裏程碑成果。
外界認為中芯國際的N+1代工藝相當於台積電的7nm工藝,不過中芯國際隨後澄清說,N+1是中芯國際的內部代號,並不等於7nm。
從性能指標看,功耗,邏輯麵積,SoC麵積都和7nm相當,當時性能稍差,真正7nm性能應該提高35%,而N+1隻有20%。
從這個角度看,N+1和7nm是性能相當的工藝,而且即將走出實驗室, 邁向量產!
這是不依賴EUV技術的新突破,可以在一定程度上緩解中國半導體芯片製程落後的局麵。