中芯國際依托國產DUV光刻機,通過多重曝光工藝,已實現7nm芯片穩定量產。這應該就是華為AI芯片和手機芯片的製造工藝。
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兩年前美國科技網紅就發現,華為AI芯片上,沒有阿斯麥光刻機通用的對齊圖案。現在看來,應該就是中國自產28納米光刻機。
-thore-
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05/17/2026 postreply
08:49:49