由上海公司宇量升生產的28納米DUV光刻機，多重曝光可生產7納米AI芯片，在中芯國際初步測試結果令人鼓舞

來源: 泥川 於 2025-10-13 19:59:34 [] [舊帖] [給我悄悄話] 閱讀數 : (0 bytes)
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