ASML是全球唯一能夠生產極紫外光刻機（EUV）的公司。在富凱的觀點中，技術差距的核心，在於光刻技術，及其背後的生態係統。EUV光刻機是製造7納米及以下先進芯片的必要工具，而中國目前尚未獲得這項設備。這使得中國在芯片製程的精度和效率上，難以與台積電、三星和Intel等頂級製造商競爭。
半導體製造工藝的進步，是一個高度複雜且長期的過程。例如，ASML從基礎研發到構建成熟的EUV生態係統用了超過20年時間。這種時間跨度不僅體現在設備研發上，還包括材料創新、供應鏈配套及技術人員培訓。EUV設備是先進製程的核心，但中國目前僅能依靠深紫外光刻機（DUV）來進行製造。這種設備在製造28納米及以上製程芯片時，表現良好，但在7納米及以下技術上難以勝任。盡管有報道稱，中國有企業已經通過技術優化，實現了7納米芯片生產，但其量產能力和良品率，仍與國際先進水平相距甚遠。
相比之下，台積電、三星等企業，不僅擁有先進設備，還通過長期技術積累和生態建設，在良品率、成本控製和工藝創新上，建立了顯著優勢。這種差距並非簡單的“設備引進”可以彌補，而需要從底層材料到產業鏈協同的全方位突破。
在半導體領域，中國不僅麵臨技術差距，還受到國際環境的重重限製。特別是美國對ASML的施壓，以及多國聯合的技術出口管製，使得中國的半導體發展路徑更加坎坷。近年來，美國政府通過《芯片與科學法案》、出口限製等手段，加強對中國半導體產業的技術封鎖。這不僅包括禁止向中國出口EUV設備，還限製高端芯片的供應和相關技術的轉移。美國還阻止ASML向中國提供DUV設備的維護服務，意圖進一步壓縮中國的製造能力。
盡管荷蘭政府在美國壓力下，對高端設備出口實施了收緊政策，但ASML仍在維持對中國市場的銷售。從數據來看，2024年第三季度，中國市場占ASML總銷售額的47%。這表明，中國市場對ASML的財務健康至關重要，荷蘭方麵在平衡經濟利益與國際壓力之間，采取了較為謹慎的態度。
半導體製造是一個高度全球化的產業鏈體係，對中國的技術封鎖，不僅在光刻機設備上，還涉及芯片設計軟件（EDA）、高端材料（如高純度矽片）和關鍵工藝設備。這些限製極大地製約了中國半導體行業的發展速度。
盡管技術和國際環境存在重重挑戰，中國在芯片領域仍取得了一些顯著進展。特別是在成熟製程、市場需求和政策支持方麵，中國正在積累經驗和實力。中國企業在28納米及以上成熟製程芯片生產中，表現亮眼。這些芯片廣泛應用於汽車電子、家電、工業控製等領域。中芯國際等企業通過技術改進，在市場競爭中占據了一定優勢。
中國是全球最大的芯片消費市場，尤其是在5G通信、人工智能和新能源汽車等領域，需求量持續增長。這種強勁的市場需求，為中國芯片企業，提供了穩定的收入來源，促進了技術迭代。而且，中國政府通過“大基金”及地方補貼，為芯片企業提供了資金支持。同時，通過產業政策引導，鼓勵更多企業投入研發和產業鏈建設。例如，中芯國際、長江存儲等企業正在擴大產能，為中國芯片的未來發展奠定基礎。
中國芯片產業的現狀，可以用“挑戰重重，蠢蠢欲動”來形容。自力更生是必然的選擇。然而，受限於資源分配和國際合作的缺失，僅靠一己之力，難以在短時間內補齊所有短板。相比完全依賴自力更生，主動融入西方主流社會，是一條更為務實的路徑。這需要中國加強知識產權保護，贏得國際技術合作夥伴的信任。同時，優化產業政策，減少過度依賴補貼的非市場化行為，促進公平競爭。此外，還必須加強國際合作，在成熟製程領域，深化與“境外勢力”合作而不是對抗，為高端技術領域的發展創造條件。
