雅虎報道，華為公布自我對齊的四重曝光專利，用來在DUV光刻機上製作5納米製程的芯片。

https://finance.yahoo.com/news/huawei-tests-brute-force-method-103454340.html

所有跟帖： 

• 另外有消息，中芯國際組建大型團隊，開始圍繞EUV光刻機的芯片試生產。已在向中國政府申請巨額投資。 -thore- ♂ (0 bytes) () 03/22/2024 postreply 16:31:41

• 這個真的很可怕。中國自產的DUV雖不成熟，但也能用。要是完全自主生產高階芯片，圍堵就徹底失敗了， -大洋bridge- ♂ (0 bytes) () 03/22/2024 postreply 16:50:40

• 這個就是因為封得不夠嚴所致，要麽不要封，要封就要全部封死！美帝一直給豁免，形同虛設！ -精木- ♂ (0 bytes) () 03/22/2024 postreply 16:54:32

• 美帝無能，土共狡猾 -大洋bridge- ♂ (0 bytes) () 03/22/2024 postreply 16:55:53

• 厲害！四重曝光還有專利，就肯定不是一般的技術了。估計美國已經打探到這一情報，所以才逼ASML限製出售DUV光刻機 -21-C- ♂ (0 bytes) () 03/22/2024 postreply 16:57:29

• 高階芯片製造這件事，目標已知，實現路徑已知，就是具體實現的問題，這TM比老夫當年奧賽題還簡單，怎麽可能做不出來 -海之塵HZC- ♂ (0 bytes) () 03/23/2024 postreply 03:03:59