不僅僅是成本,良品率,商業產能及製作工藝也會大幅降低。更不要去追趕3納米,2納米的高端芯片, 遙不可及
本文內容已被 [ amico ] 在 2024-02-07 11:48:34 編輯過。如有問題,請報告版主或論壇管理刪除.
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• 早在2016年台積電已經實現了通過多次曝光光刻利用DUV 生產7納米,隨著EUV到貨,很快就淘汰多次曝光光刻 -amico- ♂ (0 bytes) () 02/07/2024 postreply 11:56:08