不用光刻機EUV!5納米芯片製造方法專利公布
近日,上海創消新技術發展有限公司申請的“5納米芯片製造的直接蝕刻方法”專利公布。該發明涉及芯片設計及製造,方案是:按5納米蝕刻線寬設計芯片版圖,設計蝕刻掩模版後,用激光直寫光刻機刻出蝕刻掩模版;晶圓準備好後將蝕刻掩模版緊靠晶圓上表麵,用等離子體進行幹法蝕刻,蝕刻結束後移去蝕刻掩模版,清潔晶圓,進行後續常規的芯片製造步驟。這項發明的亮點在於,不用EUV光刻機或DUV光刻機,不需要光刻過程,直接蝕刻就可以製造5納米芯片。 上海創消新技術發展有限公司成立於2019年3月,法定代表人為劉明革,注冊資本50萬人民幣,經營範圍包括電子技術、化工技術、建築技術、生物技術領域內的技術開發等,由劉明革和劉佳慧共同持股。未來幾年,我們期待上海創消新技術發展有限公司能夠在芯片製造領域取得更多的突破性成果,並將這項新技術推向商業化階段。對於整個半導體行業來說,這種創新技術的出現無疑帶來了新的希望和動力,推動行業不斷向前發展,邁向更先進的製造工藝和更廣闊的應用領域。盡管目前這項