光刻房長100 米,寬20 米。 中國EUV 功率強大,輸出功率是10000瓦,而荷蘭的EUV 光刻機的輸出功率隻有250 瓦。 因為中國的EUV功率強大,一次曝光就能刻三納米,而不是像荷蘭那樣要多次曝光才能刻三納米。台積電的三納米良率不是很高,蘋果讓其自己吸納次品的額外費用。
中國的EUV 光刻房概念顛覆ASML 的光刻機,一個光刻房可以帶很多EUV 光刻工作台。中國一個EUV 光刻台就相當於一個荷蘭的EUV光刻機。因為中國光刻機是一次曝光就能刻到三納米,良品率理論上也會很高。
據說中國光刻房今年下半年驗收,明年就可以交付使用。因為輸出功率很大,耗電也很厲害,發熱問題也需要解決。這些都不是解決不了的問題。 中國太陽能發電每年浪費掉很多,因為不能儲能。