N+1或N+2技術好像也不是這麽理解的

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N+1或N+2技術是指在現有芯片製造工藝的基礎上，通過改進工藝參數或材料，實現性能提升的技術。

例如，在7納米工藝的基礎上，通過改進工藝參數，可以實現性能提升，這種技術就稱為7+1技術。在7納米工藝的基礎上，通過采用新的材料，可以實現性能提升，這種技術就稱為7+2技術。

N+1或N+2技術可以作為傳統芯片製造工藝節點節點縮小帶來的性能提升的補充。隨著芯片製造工藝節點的縮小，實現性能提升的難度逐漸增加。N+1或N+2技術可以通過改進現有工藝，降低芯片製造成本，並提高芯片的性能。

N+1或N+2技術已經在一些芯片製造工藝中得到應用。例如，英特爾的10納米工藝采用了N+1技術，實現了性能提升。台積電的7納米工藝也采用了N+1技術，實現了性能提升。

隨著芯片製造工藝的發展，N+1或N+2技術將會得到越來越廣泛的應用。

 

所有跟帖： 

• 內行。中芯的N+2是對應N+1的工藝改進提高，器件的物理尺寸不一定減半 -奔流12959- ♂ (0 bytes) () 09/05/2023 postreply 15:26:00

• 總之，技術上，還是有突破的 -濫竽衝數- ♂ (0 bytes) () 09/05/2023 postreply 15:36:21

• 應該指的是多次曝光 -濫竽衝數- ♂ (0 bytes) () 09/05/2023 postreply 15:26:25

• N小於28，已經是多次曝光了 -奔流12959- ♂ (0 bytes) () 09/05/2023 postreply 15:28:09

• 那就是多次曝光，加上N+1的技術了 -濫竽衝數- ♂ (0 bytes) () 09/05/2023 postreply 15:33:34