這個是不是真的？

晶片製造九大核心設備1、清洗機（日本和韓國5nm，中國14nm）2、氧化擴散機（日本5nm，中國14nm）3、薄膜沈積設備（美國和日本5nm，中國28nm）4、光刻機（荷蘭3nm，中國28nm ）5、塗膠顯影機（日本5nm，中國28nm）6、刻蝕機（美國5nm，中國3nm）7、離子註入機（美國5nm，中國22nm）8、CMP拋光設備（美國5nm，中國28nm）9檢測設備（美國5nm，中國28nm）

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• 再有幾年，就能全麵趕上來了。 -panlm_- ♂ (0 bytes) () 05/06/2023 postreply 07:46:57