我一再推薦這篇充滿技術細節的文章。能造5nm芯片的EUV光刻機，三大核心技術均已被我國突破。我個人是相信了。

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能造5nm芯片的EUV光刻機，三大核心技術均已被我國突破

EUV光刻機共有三大核心技術，分別為EUV光源係統，高精度弧形反射鏡係統、超高精度真空雙工件台。

中國並非毫無技術底蘊，這三大核心技術其實還是有一個的。
早在2015年，中國的長春光機所就已經研發出了EUV光刻機的高精度弧形反射鏡係統，多層層鍍膜麵形誤差小於0.1nm，達到了EUV級光刻機的標準。
但這套係統有個小問題，並非所有零部件都是國產的，其中鍍膜裝置采購自海外。
放在外國的話，長春光機所的這項技術就已經是人類最頂尖級別的了，但當被禁售製裁導致鍍膜裝置買不到後就全廢了。
我們知道如何製造人類最頂級的高精度弧形反射鏡係統，但缺少鍍膜裝置這個零部件，導致整個係統都無法製造。
2021年7月，中科院控股企業北京中科科美成功研發出鍍膜精度控製在0.1nm以內的直線式勞埃透鏡鍍膜裝置及納米聚焦鏡鍍膜裝置，滿足了長春光機所對零部件的技術要求。
中科科美研發的鍍膜裝置送到長春光機所後，我國立刻製造出了EUV級光刻機級別的高精度弧形反射鏡係統。

這次純國產，每一個零部件都是國產。

至此EUV光刻機的三大核心技術被我國突破了一個，還剩兩個。

2022年，哈工大傳來喜訊，該大學科研組成功研發出真空用超高精度激光幹涉儀，位移分辨力5pm，位移測量標準差達到30pm，關鍵指標與ASML最高水平接近，滿足EUV真空雙工件台對高速超精密激光幹涉儀的精度要求。

雙工件台造起來不難，但雙工件台的工作精度由激光幹涉儀決定。

我國突破了真空用超高精度激光幹涉儀的關鍵技術，就可以輕鬆製造超高精度的真空雙工件台。

憑此貢獻，哈工大於2022年榮獲中國光學領域最高榮譽金隧獎，並在金獎名單裏位列第一。

 

為什麽美國要把哈工大列入製裁實體清單，拚命遏製這個學校的發展，現在你應該知道了。

美國的製裁清單都是精挑細選的，從來都不會冤枉任何人，不夠格的是不配上清單的。

因為哈工大的貢獻，EUV級光刻機的三大核心技術的第二項，被我國成功突破。

還剩下的那最後一項是EUV光源係統，也是核心的核心。

光刻機光刻機，聽名字你就知道光源才是最核心的東西，而EUV光源則是EUV光刻機的心髒部件。

這玩意全球隻有美國會造，多年來都明文列入瓦森納協定，美國麾下的42個瓦森納成員國集體對中國嚴格禁售。

沒有EUV級光源，哪怕其他光刻機部件中國全都造出來了也沒用。

2022年下半年，有小道消息說中國已成功研發出EUV級光源，但並沒有官方信息證實。

2023年4月13日，長春光機所官網公布消息，中國科學院院士、中國科學院前院長白春禮在長春光機所參觀了EUV光源係統。

 

這是中國首次官方證實了我國已成功研發出EUV光源係統。

而且在官網的介紹裏，明確寫著白春禮參觀的是EUV光源樣機，也就是說長春光機所連工程樣機都已經製造出來了。

 

所謂工程樣機，指的是麵向商用研製的1:1樣機，在通過驗收後就可以直接量產，交付客戶使用。

按中國的“潛規則”，工程樣機沒有經過嚴格測試認定成功之前是不可能邀請領導來參觀的，敢讓領導來參觀並在官網上對外公布，那就說明該工程樣機不僅製造成功且已經通過了測試。

倒算時間，長春光機所在實驗室裏成功研發出EUV光源那就是去年底，小道消息沒有錯，隻是官網通告要把方方麵麵都測試到萬無一失才可以，所以又等了半年才公布。

至此，中國成功突破了EUV光刻機的所有關鍵技術，跨過了高端光刻機和中端光刻機的關鍵門檻，純國產7nm和5nm甚至3nm芯片生產線的大門已被中國徹底打開。

對此消息，外媒的評價是“炸裂式技術突破”。

所有跟帖： 

• 中國的航空、航天就是在被封鎖、製裁的環境下發展起來的。 -信筆由墨- ♂ (0 bytes) () 05/03/2023 postreply 11:10:22

• 接下來就是整合組裝的事了。兩三年裏應該有成果。 -信筆由墨- ♂ (0 bytes) () 05/03/2023 postreply 11:20:50