為什麽國內的晶圓廠，用ASML的光刻機，但不願意用國產？
前段時間，有機構發布了一個數據，那就是全球前道光刻機的銷售情況表。
數據顯示，目前在前道光刻機上，國產光刻機的份額為0，全部被荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能壟斷著。
先進工藝的就不說了，國產無法替代，但哪怕是國產光刻機覆蓋到的180nm以上的光刻機，大家都用的是ASML、尼康、佳能的，而不是國產的上海微電子的。
而有業內人士有示，目前國內的晶圓廠，在光刻機上，隻要有ASML的可買，就一般不會用國產光刻機，國產光刻機哪怕是不要錢，送到晶圓廠的，大家都愛用不愛，測試用的國產光刻機，用得非常少，都是在吃灰。
那麽問題就來了，為何晶圓們不願意用國產光刻機，更願意用ASML等廠商的國外貨，是崇洋媚外麽？
還真不是崇洋媚外在作祟，背後其實還是生態的問題。
我們知道芯片製造，是非常複雜的，需要幾十上百種設備，上百道工序，這些過程，由各種設備來協同工作。
這些設備之間，需要非常緊密的配合，而ASML的光刻機，與各種各樣的設備，早就形成了兼容以及協同，大家配合無間。
一旦光刻機換了，能不能與這一大批的國外設備兼容，且達到緊密的協同還真不好說。
同時，光刻機的精度，其實是一個寬度適應的，比如ArFi光刻機，可以用於7-45nm，而ArF幹式光刻機，可用於65-180nm。
ASML或尼康的光刻機，可以進行精度比較廣的適應，但是國產光刻機，技術相對較為落後，無法適應這麽寬的精度，甚至隻能專機專用，讓晶圓廠 也是左右為難，需要重複投資，原本一台ASML的光刻機搞定了，最後買了國產光刻機，還需要ASML的，投資浪費了。
還有，使用國產光刻機，讓晶圓廠對良率也產生了懷疑，良率就是晶圓廠的生命，決定了成本、效率等等。
所以大家一般情況下，更願意用成熟的，自己熟悉的產品，這樣保證自己的收入、成本、效率等，不願意冒險使用國產光刻機。
當然，目前在國產化的趨勢之下，國產光刻機也迎來了機會，但是如果在生態、與其它設備的兼容、工藝上進行提升，國產光刻機還是很難搶ASML的市場，晶圓廠們，並不太願意去用它。
