先看傳統的光刻機的工作原理：
傳統的光刻機，就是通過物鏡係統，把掩膜版的電路圖縮小成納米，投射到光刻膠上曝光成像，然後放到特殊化學藥液裏邊，曝光的地方，可以自動溶解掉，形成“凹巢電路圖”，然後注入銅液，銅液凝固後，抹平，電路圖變成了芯片。
傳統的光刻機有一個很大的問題，所謂衍射問題。光源照射物鏡係統，如果物鏡係統過多，會形成衍射，也就是最終投射到光刻膠的圖案會變形。
解決方法有兩個：1，是用更短的波源（比如深紫外線），2， 是更加複雜的物鏡係統。
但是增加物鏡係統，會增加控製係統以及各種設備的製造複雜程度，導致現在光刻機越來越貴，達到上億美元一台。聯電，或者歐洲，米國的一些芯片工廠，甚至公開宣布放棄繼續10納米的製造，專注22納米以上的，因為越來越用不起了。ASML顯然喜歡用這兩個越搞越複雜，越搞門檻越來越高的解決方式，因為既可以提高門檻，嚇跑競爭者形成壟斷，還可以賣出更高的價錢。
中國的科學家們知道在物鏡和光源方麵與ASML競爭，不僅麵臨巨大的技術難關，還有專利壁壘。因此想繞開這個光源（德國的蔡司壟斷）和物鏡係統（ASML壟斷）。
光學所的研究人員（中國的光學，激光研究，其實一直是世界領先的，6，70年代就領先）發現，如果用光源照射到一個用特殊電磁做成的圓環狀的圓圈時候，會激發金屬表麵的等離子激元，它可以穿過金屬表麵的小孔，再發射出去。光可以通過等離子元，匯集到一個非常小的區域（類似傳統光刻機的物鏡係統），變成了納米大小（22納米）的點。很顯然，如果投射到光刻膠，就可以用傳統的光刻方式，進行化學“光刻”了。
光學所製造的光刻機，是真正意義上“光刻”機，類似一台用激光“畫圖案”的機器，要麽移動激光機，要麽移動光刻膠，一點一線地在光刻膠上“刻寫”圖案。而傳統的光刻機，實際不是“光刻”，而是“化學機”：先製造掩模，光源照射掩模模板，然後通過物鏡係統的壓縮掩模成納米模板，形成“納米電路圖”。
也就是說，光學所造出的光刻機，完全避開了傳統光刻機最厲害，最難做，最值錢的兩大係統：光源/物鏡係統。中國科學家的光刻機，光源是貢燈，幾萬元一個。 整個係統不過幾百萬，完全是白菜價。
光學所的光刻機，是典型的光（光學，光源 ）機（機械控製，需要精密地控製激光器或者放置光刻膠底坐的移動位置，精度達到納米級）電（用電磁，類似硬盤光盤讀寫機，精確地定位納米級別的光投射位置）一體機，而傳統的光刻機，說白了，還是屬於化學工業範疇。
報道說，這個光刻機現在已經能畫出“22納米的”圖案。從中可以看出，光學所的這台光機電一體的激光器，刻字機，是多麽的高精尖！
一些人覺得這個東西是非常牛鼻，但是大規模的商用價值存疑。因為如果每一塊芯片，都需要一筆一筆地用激光一筆一劃地畫出來，那製造幾十億快芯片，得猴年馬月！ 而傳統的光刻機，隻需要製造出一個模板，就可以無限製的“印刷”出來。。。
其實，光學所的光刻機，完全可以專門用來製造壓縮過的電路掩模，比如製造出1納米，5納米，10納米，22納米的電路圖模板，讓後再用傳統的化學光刻技術，可以成千萬“印刷出成品”。與傳統的光刻技術不同的是， 因為模板已經是納米級別的，它的物鏡係統隻需一麵鏡子！光源隻需要幾萬元一個！製造一個芯片隻需上萬元！
還有人說，中國的這個激光光刻機，目前隻能“畫”點，畫線，畫數列，矩陣，不能畫任意圖形。傻小子，隻要能畫出“點”，畫出“線”，那麽什麽圖案不能畫出來？ 微積分是幹什麽的？計算機圖形學是幹什麽的？。。。。。
哈哈，聲明一句哈，我完全是業外人士。上述“使用”前景圖，都是個人的想法和解讀，如果不對路，要包涵一下哈。
光學所的所長說，現在中國不怕被製裁，不怕被禁運了，就是這個原因。
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