如何看待中國製造首台等離子光刻機？消息指，目前僅有實驗室意義，可用於交換光刻機技術！

https://www.zhihu.com/question/304097402

作者：劉奧
鏈接：https://www.zhihu.com/question/304097402/answer/542116615
來源：知乎
著作權歸作者所有。商業轉載請聯係作者獲得授權，非商業轉載請注明出處。
 

謝邀！做過一年表麵等離子共振(表麵等離子激元，SPR或者SPP，下文使用縮寫SPP) 並且在這個領域發過一篇文章的“相對專業”人士來回答一下~

這台基於SPP的光刻機雖然可以達到很高的“分辨率”，但是現階段並不能應用到大家比較關心的芯片製造行業上~

SPP最初興起於九十年代，這個技術可以突破衍射極限從而得到更高的“分辨率”。這個“分辨率”要打引號是因為基於SPP的光刻技術隻能刻蝕周期性花樣(無法刻蝕任意圖形)。這就導致了SPP光刻技術的應用前景僅限光柵、光子晶體之類的周期性結構。當然，僅僅光柵、光子晶體本身已經相當重要了(尤其是軍事應用)。

此外，這台光刻機還應該是SPP光刻技術第一次正式應用到工業領域(可能也是第一次應用到深紫外光刻領域)。而且這個技術有很好的發展前景，現在這台光刻機使用的是365nm的光源，如果使用現在最先進的193nm 氟化氬準分子激光做光源，有望將“分辨率”提升到12nm（當然，實際肯定不止換一個光源這麽簡單）。

至於有評論“超淨間不戴口罩不專業”的，我隻想說：您可能沒在超淨間做過科研（科研對成品率不太看重）。因為超淨服是不透氣的，如果天天在超淨間捂得嚴嚴實實泡八個小時的話可能就直接虛脫了。所以比較常見的做法是：在不接觸芯片且離光刻機比較遠的時候摘下口罩甚至解開一兩顆扣子透透氣~ 另外，由於大多數高年級博士生手都特別穩，不戴手套做實驗也比較常見的~ （這段僅限不怎麽考慮成品率的學術界，工業界顯然不能這樣！）

 

174 人讚同了該回答

 

作者：yswyx
鏈接：https://www.zhihu.com/question/304097402/answer/541965179
來源：知乎
著作權歸作者所有。商業轉載請聯係作者獲得授權，非商業轉載請注明出處。
 

這個新聞出來以後，輿論出現了兩個極端，一堆人說很牛，一堆人說吹牛。說很牛的外行居多，說吹牛的業內人士居多（但不是最專業的）。實際上這兩種說法都對，又都不對。我來具體分析一下。

說很牛的，的確是世界級的工作，這一點毋庸置疑。超分辨力光刻技術有很多種，等離子激元隻是其中一種，技術的提出已經有十幾年了，其它的還有泰伯光學，全息，雙光子，光子能量疊加等技術，而且已經有了商業化設備。針對等離子激元，真正做成一個成型的設備，這是我第一次見到。這是非常了不起的。而且，做到波長十分之一以下的分辨力，並且是大麵積的實現，也是其它技術很難實現的。這是國內光刻領域非常重要的技術突破，而且是在很艱苦的條件做出的，很不容易。

說吹牛的，很多國內產業屆的人士，限於對最新技術的了解，認為365nm無法獲得超分辨力結構，甚至有人拿新聞中的照片說沒戴口罩來說事兒，是很不負責任的。要說吹牛，實際要指出的是這個技術自身的局限性。以目前的技術能力，隻能做周期的線條和點陣，是無法製作複雜的IC需要的圖形的。更進一步，以光電所目前的實力，IC製造需要的超高精度對準技術，也是無法實現的。因此這項技術在短期內是無法應用於IC製造領域的，是無法撼動ASML在IC製造領域分毫的。它所麵向的應用領域，是光學器件，比如高精密光柵，光子晶體陣列等等，雖然狹小，但需求仍然非常高端和強烈。從這一點上說，新聞報道的某些方麵是有吹牛的成分的，但以目前的形勢，可以理解。隻是那些所謂的專業人士沒黑到點子上。

綜合來看，這項技術在很關鍵的領域實現了突破，至少獲得了和歐美技術交換的基礎，這是非常重要的事情。雖然短期無法實現在IC領域的應用，但形成了一定的威脅，長期還是有可能取得更重要的突破的。而這項技術最可貴的是，可以在光學器件製造領域迅速的得到應用，具有現實的商業化意義，和巨大xx價值。

在這裏，請記住幾個人的名字，杜春雷，羅先剛，胡鬆，葉甜春。沒有他們的引領，創造，堅持和支撐，就沒有取得成果的今天。還有那些在為中國半導體事業奮鬥在一線的人們，致敬！

有個細節請各位注意，這篇文章是軍報記者報道的，信息量很大。