林本堅是誰？ 半導體製造行業的人都知道， 他是曾經服務於台積電的3位美國工程院院士之一（另外2位是張忠謀和胡正明），浸潤式光刻技術的發明人。

光刻機和光刻技術現在中國幾乎是家喻戶曉， 主要是中國媒體很不負責任地大聲疾呼， 把中國半導體製造落後的原因歸咎於美國或西方對華光刻機限售。  其實，光刻以前從來就不是啥關鍵技術，早期芯片製造廠是自己動手製造光刻機， 到上世紀末期，日本人憑他們的精細打敗了一群美國生產廠家，基本上統治了這塊市場。

到了本世紀開頭，原有光刻技術已經不能滿足摩爾定律要求了，當時有2個新方向，一是157nm波長紫外光刻、以空氣為介質的“幹式”光刻技術的突破，日本人把主要力量放在這個方向， 2是EUV（極紫外光刻），這是美國人努力的方向，為此還成立了EUV聯盟， 聯合當時的6家巨頭合作開發EUV。 這時剛轉到台積電不久的林本堅， 卻到處推銷他的用水做介質的紫外浸潤式光刻。

其實浸潤式光刻是林本堅在IBM工作時做的工作，他後來回憶，當時IBM裏麵各個路線試嚐都有，其中最被看好的是X光光源， 林於是在他的辦公室門外貼個條子：beat X ray.  X光光刻後來沒做出來，林的紫外光浸潤式光刻做出來了， 但沒引起公司的重視，這就是大公司的弊端之一了。 ps. 到了2019年，中科院什麽所也用X光在實驗室做了啥，在中國媒體上宣稱取得所謂光刻“突破”，引起粉紅們歡呼一片，唉，作為曾經粉紅的我， 中國半導體行業放的衛星見得多不勝數，早就知道是怎麽一回事，肯定又是無疾而終。

林本堅推銷的浸潤式光刻， 引起了2家公司的興趣，一個是德國飛利浦公司的子公司，當時在光刻領域還是無名小卒的ASML。 還有日本的尼康， 至於為啥後來ASML打敗日本的2家公司（尼康和佳能),  我在自己的博克裏別的帖子裏說過了，這裏再貼一次： 日本人做事認真，但局限在自己的圈子裏，而荷蘭作為現代資本主義的鼻祖，走的是跨國利用全球人才和技術資源的路子， 它的技術開發人員是國際化的，技術和零部件來自全球各地，比如多達50%來自美國，鏡頭來自德國蔡斯，台灣也有它的零部件供應商，而它自己集中精力關注整機整合，實踐證明，這套方式要比日本人有競爭優勢。

總之，林本堅的浸潤式光刻路線大獲成功， 他也因此獲得了應得的榮譽，憑浸潤式光刻和胡正明發明的Finfet芯片結構，半導體製造業保持了摩爾定律， 從um級進步到7nm,  台積電用DUV（深紫外浸潤式光刻）， 使用多重暴光，在2019年量產了7nm級別芯片，但再往下做，用浸潤式光刻就很困難了，這時EUV出場了。

前麵提到美國的EUV同盟，因為進展緩慢，也做不下去了，同盟中也最後也隻有intel還有芯片製造部門，AMD/motorola/ IBM 早就把自己的芯片製造部門剝離，就是美國現在唯一的芯片代工公司GF。 而荷蘭公司ASML因為浸潤式光刻的大成功，而瞄上了下一代光刻EUV， 投入開發後覺得自己力量不足，於是在2012年拉了下遊3大客戶intel/三星/台積電出資入股來共擔風險來繼續開發EUV，  intel是出資最多的， 買了15%ASML股份，三星我記得是5%，台積電最少，3%， 而且在2年後早早就把它的股份賣掉了，應該說，台積電原來是最不看好EUV的，我個人估計也與林本堅有關，林堅持認為EUV做不成，而他的浸潤式可以長期往下做，可見，人很難跳出讓自己大獲成功的路徑。

但具有諷刺意味的是，EUV在2017年終於實用化之後，反而是台積電應用得最成功，他們首先用EUV做出了7nm改進版（N7製程）， 去年Q2又推出了5nm量產， 今年Q3有開始了3nm試產，按他們過去的曆史規律，一年後應該會量產。

中國大陸的芯片製造，實際上與中國過去在我開發的曆史是斷開的，因為半導體行業迭代太快，中國自己在實驗室仿製都遠遠跟不上，而引進的國外生產線，往往等自己能掌握的時候，已經給拋開幾代以後了，而後續開發，因為官辦機構固有蹩端，根本就跟不上，但牛皮倒是不斷。 直到本世紀初，台灣人到上海辦了中芯，全盤用了國外設備和主要是台灣的人才和技術，才等於重新開始中國大陸的半導體製造， 中芯在中國大陸一直保證頭牌位置，技術也一直在進步，但與台積電比，進步沒有台積電大，所以其差距反而在拉大。 中芯在2019年底就號稱量產了14nm, 當時我就說了，他們實際上是在試產，原來我估計，它們最快一年後能量產，但直到現在，在他們的財報裏，14nm製程營收還沒有單獨列出，也就是說，實際上至今還沒有量產。

中芯目前手上的設備，包括ASML的DUV光刻機， 理論上做到7nm量產是沒問題的，台積電2019年量產7nm時的設備還沒有中芯片現在好，比如ASML DUV 那時是1980Di款，現在已經進了2代了，到了2000i和2050i款了, 這些設備，至目前為止其銷售對中芯是敞開的。 美國打壩子的，隻是EUV，當時中芯已經定購了一台EUV用在實驗室做研究，但在交貨時，美國對荷蘭政府施加壓力，荷蘭政府暫停了EUV對華出口許可證。

由此可見，光刻機過去和現在，都不是中國芯片製造卡脖子的關鍵，至於以後是不是，等到中芯把自己的7nm芯片量產出來再說吧，這在技術路線上已經被台積電證明是可行的。 當然，林本堅出於對自己浸潤式光刻路線的偏愛，說不用EUV，中芯也可以做到5nm, 也許是也有可能吧。