作者:yswyx
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這個新聞出來以後,輿論出現了兩個極端,一堆人說很牛,一堆人說吹牛。說很牛的外行居多,說吹牛的業內人士居多(但不是最專業的)。實際上這兩種說法都對,又都不對。我來具體分析一下。
說很牛的,的確是世界級的工作,這一點毋庸置疑。超分辨力光刻技術有很多種,等離子激元隻是其中一種,技術的提出已經有十幾年了,其它的還有泰伯光學,全息,雙光子,光子能量疊加等技術,而且已經有了商業化設備。針對等離子激元,真正做成一個成型的設備,這是我第一次見到。這是非常了不起的。而且,做到波長十分之一以下的分辨力,並且是大麵積的實現,也是其它技術很難實現的。這是國內光刻領域非常重要的技術突破,而且是在很艱苦的條件做出的,很不容易。
說吹牛的,很多國內產業屆的人士,限於對最新技術的了解,認為365nm無法獲得超分辨力結構,甚至有人拿新聞中的照片說沒戴口罩來說事兒,是很不負責任的。要說吹牛,實際要指出的是這個技術自身的局限性。以目前的技術能力,隻能做周期的線條和點陣,是無法製作複雜的IC需要的圖形的。更進一步,以光電所目前的實力,IC製造需要的超高精度對準技術,也是無法實現的。因此這項技術在短期內是無法應用於IC製造領域的,是無法撼動ASML在IC製造領域分毫的。它所麵向的應用領域,是光學器件,比如高精密光柵,光子晶體陣列等等,雖然狹小,但需求仍然非常高端和強烈。從這一點上說,新聞報道的某些方麵是有吹牛的成分的,但以目前的形勢,可以理解。隻是那些所謂的專業人士沒黑到點子上。
綜合來看,這項技術在很關鍵的領域實現了突破,至少獲得了和歐美技術交換的基礎,這是非常重要的事情。雖然短期無法實現在IC領域的應用,但形成了一定的威脅,長期還是有可能取得更重要的突破的。而這項技術最可貴的是,可以在光學器件製造領域迅速的得到應用,具有現實的商業化意義,和巨大xx價值。
在這裏,請記住幾個人的名字,杜春雷,羅先剛,胡鬆,葉甜春。沒有他們的引領,創造,堅持和支撐,就沒有取得成果的今天。還有那些在為中國半導體事業奮鬥在一線的人們,致敬!
有個細節請各位注意,這篇文章是軍報記者報道的,信息量很大。