ZT: 北京礦冶總院研發成功高純氧化釔防護塗層技術

來源: 2013-09-16 10:22:22 [博客] [舊帖] [給我悄悄話] 本文已被閱讀:

礦冶總院研發成功極大規模集成電路芯片用高純氧化釔防護塗層技術 
時間:2013-05-09  文章來源:北京礦冶研究總院 

日前,由北京礦冶研究總院北礦新材科技有限公司為主承擔的由國家科技部組織的國際合作項目“極大規模集成電路刻蝕機用高純氧化釔塗層聯合研發”驗收會在北京舉行。該項目的成功實施,標誌著極大規模集成電路芯片製造重大裝備關鍵零部件國產化技術取得了重大突破,芯片刻蝕機用高純氧化釔防護塗層技術研發獲得成功。

采用此技術建成了國內首個針對高純度塗層材料及塗層加工的生產線高潔淨中試生產線,可滿足刻蝕機內腔200套/年的加工需求,其設計思路可推廣應用至整個熱噴塗行業。

通過本項目的合作研發,加強了國內企業與國際知名熱噴塗企業GTV、Aachen大學的技術交流與合作,使我國進入了被美、日等壟斷的高純熱噴塗材料及塗層製備技術領域,促進我國熱噴塗產品走向高端生產型並服務於國際市場,帶動熱噴塗行業的高新技術發展,有力地推動了相關領域的技術進步。同時,本項目采用了我國研究單位組織、應用單位參加與非壟斷國先進企業合作的運作模式,為突破製約我國先進裝備製造的瓶頸技術,打破國外的技術壟斷,提供了一條新的解決途徑,創造了有益的合作模式,積累了寶貴的經驗。

http://www.sasac.gov.cn/n1180/n1226/n2410/n314319/15316204.html