你昨天說能碾壓英偉達，純屬扯淡，還是在用老掉牙的技術勉強生產幾片

來源: 於 2026-05-17 09:32:31 [舊帖] [給我悄悄話] 本文已被閱讀：次
中國在5納米芯片製造上已取得突破性進展。目前主要芯片製造商（如中芯國際）已通過非EUV（極紫外）光刻路徑，利用現有DUV（深紫外）設備及多重曝光技術進行5納米芯片的試產與量產準備，以滿足國內AI和高端移動設備的需求。
中國在5納米及以下製程領域的量產現狀與關鍵背景如下：
  • 技術路徑與設備：在無法獲取高端EUV光刻機的情況下，國內廠商通過創新的非對稱工藝和SAQP（自對準四重圖案）等複雜多重曝光技術，在現有DUV光刻機基礎上實現了先進製程的突破。
  • 產業鏈自主化：不僅在製造端，國內EDA工具及相關半導體設備產業鏈也在加速協同研發，以提升整體自主可控能力。
  • 麵臨的挑戰：由於采用了多重曝光技術，相較於主流EUV工藝，該製程在生產成本控製和芯片良率提升上仍麵臨較大考驗，目前多應用於對性能要求極高、對成本敏感度較低的領域（如高端AI算力芯片）。